chiller制冷机

半导体光刻水冷机系统故障机理研究：温控偏差成因、泄漏失效分析与介质变质防控

2025/07/10 6

半导体光刻行业对温度控制的精度和稳定性要求严苛，光刻水冷机作为核心温控设备之一，其运行状态直接影响光刻工艺的稳定性。从原理层面分析，光刻水冷机在实际应用中可能面临温度控制偏差、系统泄漏、介质污染等...

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