低温循环冷却机

半导体Chiller设备在光刻、刻蚀与薄膜沉积中的应用实践

2025/07/25 21

在晶圆制造过程中，温度控制的准确性直接影响光刻、刻蚀、薄膜沉积等关键工艺的稳定性与产品良率。半导体Chiller设备作为温度控制的核心装置之一，通过制冷与加热的动态调节，为不同制程提供稳定的温度环境。 　...

查看全文