半导体 DI 水温控：超纯水温控 CHILLER 说明

半导体制程中，DI 水（超纯水）广泛应用于清洗、冷却等环节，其温度稳定性与洁净度直接影响制程效果与产品质量。超纯水温控系列 CHILLER 制冷循环器，专为半导体 DI 水温控设计，可将 DI 水冷却至制程所需的目标温度，同时保障介质洁净度，适配半导体 DI 水相关制程的温控需求。

设备温度范围为 + 15℃至 + 40℃，控温jing度 ±0.1℃，可定制 ±0.01℃高jing度配置，可根据半导体 DI 水相关制程的温度需求，灵活设定目标温度，保障温度稳定，减少温度波动对制程的影响。冷却能力与加热能力可根据制程负载需求选择，适配不同规模的半导体制程设备，保障控温效果稳定。

介质采用 DI 水，电导率控制在 10-18MΩ・cm，满足半导体制程对低电导率的要求，可防止电流泄漏，避免对半导体晶圆、芯片等jing密元件造成电化学干扰。设备内置过滤器，可去除 DI 水中的杂质，防止水垢生成，降低游离离子污染，保障介质洁净度，避免制程过程中引入杂质污染产品或设备。

设备支持冲洗型与循环型两种运行模式，适配不同 DI 水制程需求。冲洗型模式下，设备持续输送新鲜 DI 水，换热后直接排出，保障介质洁净度，适配对洁净度要求ji高的半导体清洗环节；循环型模式下，DI 水形成闭环循环，减少介质损耗，适配半导体设备冷却等连续运行的制程环节。

设备的 1-loop 与 2-loop 独立通道设计，可同时为多个 DI 水制程设备提供独立控温，互不干扰，适配多工位并行的半导体量产线场景。双通道设备可分别为不同制程设备提供不同温度的 DI 水，适配不同工艺的温度需求，提升设备利用率。

控制方面采用智能算法，实现动态温度快速响应，温度跟随性良好，可根据制程负载变化自动调节制冷与加热功率，保障温度稳定。设备配备完善的安全防护功能，实时监测运行状态，异常时自动报jing并停机，保障制程安全。通讯接口支持多种协议，可接入半导体产线自动化系统，实现远程监控与数据追溯。

超纯水温控系列 CHILLER 制冷循环器以稳定的温度控制、高洁净度介质与多场景适配的特性，为半导体 DI 水相关制程提供可靠的温控支持，助力半导体行业的稳定生产与产品质量保障。