无锡冠亚智能装备有限公司
半导体封装热循环仪通过±0.1℃均匀控温技术和多通道热流准确调控，为Chiplet封装提供热管理解决方案。
一、±0.1℃均匀控温技术原理
1、热均衡系统
初级控温：采用PID+模糊控制算法，结合铂电阻传感器，实现腔体温度±0.1℃波动。
次级均衡：内置均温铜板+热管阵列，将冷热源均匀分布至测试区域，消除边缘效应。
2、多通道独立控温
模块化设计：支持8通道独立温度控制，适配Chiplet多裸片异构集成场景。
分区算法：采用自适应控温模型，根据各Chiplet热特性自动分配制冷功率。
二、应用场景与行业价值
1、可靠性测试：标准下的TCT（热循环试验）、TMCL（温度-湿度-机械应力联合测试），模拟严苛环境对Chiplet封装寿命的影响。
2、晶圆级封装：在Fan-Out WLP、3D IC制造中实现准确热压键合，减少翘曲和界面空洞。
3、制程研发：适配2.5D/3D封装、光电子集成等场景，解决高密度互连带来的热耦合问题。
三、Chiplet封装应用突破
1、3D堆叠热管理
TSV散热优化：通过瞬态热仿真定位3D堆叠热点，定向喷射低温气流（-40℃），降低TSV热应力。
键合材料验证：在150℃高温老化测试中，筛选键合材料分层缺陷，良率提升。
2、异构集成工艺适配
塑封过程控温：在塑封模具中集成微型热循环仪，控制模具温度±0.2℃，减少溢胶与空洞缺陷。
引脚焊接优化：通过快速温变测试（10秒内-55℃→+125℃），优化焊点金相结构，焊接可靠性提升。
四、良率提升量化机制
1、失效模式阻断
热膨胀失配：通过多通道均匀控温，降低Chiplet与基板CTE失配风险，良率提升2.1%。
电迁移影响：在高温段（150℃）加速测试中，优化金属导线晶粒结构，寿命延长40%。
2、工艺窗口扩展
光刻胶稳定性：在±0.1℃恒温环境下进行光刻，线宽均匀性改善，CD偏差降低。
薄膜沉积优化：通过温度冲击测试调整CVD工艺参数，薄膜缺陷率降低。
五、竞争优势与行业突破
精度与效率：相比传统设备（±1℃级），控温精度提升10倍，且能耗降低。
模块化扩展：支持从实验室级（小型芯片）到产线级（12英寸晶圆）设备的快速适配。
四、国内设备商创新方案
冠亚恒温半导体Chiller高精度冷热循环器按照不同产品类型，包括单通道和双通道，主要有FLTZ变频单通道系列（-100℃~+90℃）、FLTZ变频多通道系列（-45℃~+90℃）、无压缩机系列ETCU换热控温单元（+5℃-+90℃）
半导体封装热循环仪通过±0.1℃均匀控温技术和多通道独立控温架构，系统性解决Chiplet封装中的热应力、电迁移等关键难题，助力良率提升。
